今天，南大光电发布公告，宣布由其控股子公司“宁波南大光电”独立开发的ArF（193nm）光刻胶产品。最近已成功通过客户认证。该报告显示，“该认证选择了50nm闪存产品中的客户控制门进行验证。经过宁波南大光电有限公司测试的ArF光刻胶产品的性能符合工艺规范，并且成品率达到了标准。” “和工业化”是宁波南大光电承担国家“ 02特殊项目”的一项重点研究项目。该产品的认证标志着“ ArF光致抗蚀剂产品的开发和工业化”已经通过。该项目取得了关键性突破，成为国内首个通过产品验证的国产ArF光刻胶。根据IT Home的说法，光刻胶是半导体芯片制造过程中的核心材料之一。在紫外线，电子束等照射后，光致抗蚀剂被曝光并改变其化学性质。用显影剂洗涤后，图案仍将保留。在基材上。光刻胶分为KrF（248nm），ArF（193nm）和EUV（13.5nm）。括号中的值是曝光光源的波长。