ASML在光刻机领域几乎是一个巨头，也非常欢迎它们与中国公司合作，但美国在某些关键细节上无能为力。中国需要光刻机，特别是支持先进工艺的高端光刻机，尤其是EUV（极紫外光源）光刻机，但是ASML不允许使用这种机器，这是美国主要要求的。 EUV光刻机是光刻机发展过程中的第五代产品。由于使用了极紫外光，其最小的工业节点为22nm-7nm。可以说这是世界上最先进的光刻机设备，而这种设备只能由ASML制造。 2018年4月，中芯国际向ASML订购了价值1.2亿美元（约合8亿元人民币）的EUV光刻机，预计将于2019年初交付。包括中国客户在内的中国客户，并且向中国出售EUV光刻机均未违反“瓦森纳尔协议”。当时，荷兰政府确实向ASML颁发了出口许可证。但是，最终交易没有形成。据知情人士说，美国立即将重点放在交易上。在接下来的几个月中，美国官员至少与荷兰官员举行了四次会议，商讨是否可以直接阻止该交易。 。从那以后，关于向中国出口EUV光刻机，ASML的官方声明一直是：该公司仍在等待新许可证申请的批准。在此之前，ASMLCFORoger Dassen在财务报告会议上的视频采访中谈到了与中芯国际等中国客户的业务状况。他说，在某些情况下，出口光刻机不需要许可证。罗杰·戴森（Roger Dassen）指出，ASML了解美国当局当前的规章制度及其解释。当然，他们也知道这些与特定的中国客户密切相关。但是，如果您大致了解ASML规则和法规对ASML（针对特定的中国客户）的总体含义，那么这意味着ASML将能够从荷兰向这些中国客户提供DUV光刻系统，而无需出口许可证。美国仅限制美国向中国出口芯片，光刻机等，但不限制其他国家向中国进口。荷兰不在美国禁令范围之内。目前的光刻机主要分为EUV光刻机和DUV光刻机。 DUV光刻机分为两种：干馏和液浸。其中，液浸型诞生于ASML手中。尽管其波长为193nm，但等效于134nm。经过多次曝光后，液浸光刻机也可以达到7nm工艺。但是，每增加一次曝光都会大大增加制造成本，并且良率也难以控制。 EUV光刻机使用波长为13.5nm的光源，这是突破10nm芯片工艺节点必不可少的工具。换句话说，即使DUV（深紫外线）光刻机可以在没有ASML的EUV光刻机的情况下找到尼康和佳能的替代品，芯片巨头台积电，三星和英特尔的5nm生产线也无法实现。投产。